华为余承东：EUV设备是制造先进芯片的关键，国内正在研发

华为余承东表示，极紫外光刻（EUV）设备是制造先进芯片的关键，中国正在研发但现阶段仍依赖深紫外光刻（DUV）。华为通过逻辑折叠（LogicFolding）技术提升性能，弥补无法获得更先进制程的不足。